电子束镀膜机是通过电子束加热材料实现薄膜沉积的科学仪器，适用于高熔点金属和氧化物薄膜的制备 。
其核心功能包括在真空环境下完成金属蒸发、沉积及原位控温，支持直径150mm样品的高精度旋转与400℃加热处理。该设备在光学仪器的宽带减反射膜、激光硬膜反射镜以及金属硅化物（Pd2Si, PtSi,IrSi）肖特基势垒红外CCD研制中硅化物薄膜等领域有重要应用 。其技术规格涵盖3至6英寸基底尺寸的兼容性、多级真空系统和自动化控制模块。
截至2026年，清华大学、厦门大学、华中科大等高校及研究机构已将其用于化合物半导体器件的科研工作 。
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