高真空镀膜机

高真空镀膜机

高真空镀膜机是一种用于物理学、化学领域的工艺试验仪器。它具有有机材料热蒸发沉积和金属材料热蒸发沉积成膜功能,腔体内有八个源用来置放不同的材料,并且一次可以对四个样品进行蒸镀,同时配置两个电流源加热材料,实际蒸镀时真空可以达到10-7 torr 。其真空系统通常由机械泵、增压泵、油扩散泵等组成,真空腔体由不锈钢材料制作,尺寸多样 。部分型号配备全自动PLC控制系统和温控蒸发源,如部分系统可在13分钟内达到1×10-6 mbar的真空度,并提供50~800℃的低温温控蒸发源和300~1400℃的高温温控蒸发源 ,可用于微纳电子器件电极的制备等,部分型号的技术指标示例如下:真空度可达9×10-8 Pa,坩埚数4,基片最大尺寸4英寸 。

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